主要特点

　　这款蒸镀仪是我公司研发的一款微型高真空蒸镀薄膜生长设备，利用高真空下材料分子束缚分离后的动力实现蒸发，可通过蒸发台和基体之间的距离调节实现对分子的筛选，从而制备出高质量的薄膜。广泛用于钙钛矿电池行业，OLED行业。设备额定真空可以到5X10-4Pa，额定温度800度，蒸发台和基体之间距离可调等功能。

　　技术参数

　　额定温度： 800度

　　控温精度： +— 1度

　　设备额定真空度： 5X10-4Pa(配分子泵)

　　设备外形尺寸

　　基体上下位置可调行程：0-50mm

　　基体台旋转：可选

　　设备进出气口：已预留

　　控温方式：30段模糊型PID

　　通讯接口方式：232

　　报警功能：超温、短偶