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真空腔室 |
φ120*H350mm |
基片架 |
转速可调 |
额定可镀工件直径 |
φ60mm |
极限真空度 |
2X10-4Pa |
抽气时间 |
≤30min |
功率 |
150W |
真空系统 |
分子泵 |
蒸发温度 |
80-600度 |
膜厚仪 |
单通道 |
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