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主要特点
我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验炉体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD),系统可以实现连续滑动温区,连续可控制温度及Plasma强度。PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体,辉光放电等离子体中:
1、电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍,使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。
2、通过反应气态放电,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有点,工艺流程简单。
技术参数
Furnace加热炉 |
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Max. Tem |
1200℃ |
Heating zone length电压 |
440mm/220mm |
Constant zone length |
200mm-100mm |
控温方式 |
lPID automatic control andauto-tune function. 模糊PID控制和自整定调节 l30 programmable segments for precise thermal processing. 智能化30段可编程控制 lBuilt-in protection for the over-heated and broken thermocouple. 超温和断偶报警功能 lOperation interface is 7 "industrial control computer 操作界面为7”工控电脑 |
Heating Elements 加热元件 |
·Resistance wire, Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo 电阻丝(掺钼铁铬铝合金) |
Temperature Accuracy 控温精度 |
+/- 1°C |
Processing tube 炉管 |
Φ50/60/80-100(可选)*1650mm(optional) |
升温速率Heating rate |
10℃/min |
PE sourcePE源 |
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Signal frequency信号频率 |
13、56 MHz±0.005% |
Power output range功率输出 |
0-500W 范围可根据客户工艺定制Can be customized according to customer process |
RF output interface射频输出接口 |
50Ω, N-type, female |
Power stability功率稳定性 |
≤5W |
Gas supply system气路系统 |
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High precision mass Flowmeter(Range optional) |
高精度质量流量计(量程可选) |
Accuracy准确度 |
±1、5% |
Response accuracy响应精度 |
·±0.2% |
Response time 响应时间 |
Gas characteristics:1~4sec 气特性 Electrical characteristics:10sec 电特性 |
Working pressure difference range工作压差范围 |
0.1~0.5MPa |
Max. pressure额定压力 |
·3MPa |
Connection连接头类型 |
Φ6mmDouble clasp stainless steel joint Φ6mm双卡套不锈钢接头 |
Vacuum unit真空系统 |
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KF25 series bellows and manual stopper valves |
采用KF25系列波纹管和手动挡板阀 |
Vacuum up to10-1Pa |
真空度可达10-1Pa |
The value can be displayed intuitively by the digital display vacuum tester
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数显真空测试仪可直观的显示数值 |
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