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大面积CVD石墨烯生长设备
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大面积CVD石墨烯生长设备

厂家: 日期::2020-07-06 浏览次数:

设备尺寸

Φ300*2800mm

炉管尺寸

Φ300*3000mm

额定进料量

20Kg

加热元件

KTL电阻丝

加热区数量

3-8区(可根据需求定制)

额定温度

室温至1200℃,连续可调

控温方式

人机界面加PLC控制,10寸液晶屏控制,数字工控仪表双控,采用工业智能控温仪表和软件实现双控,采用模糊型PID控制

无纸记录

内置存储记录运行工艺数据,外接USB接口,可以电脑连接一键拷贝数据

结构描述

①设备可电动对半开启,自动控制冷却降温系统.实现可控冷却速度.②在进料端配备2路高精度质量流量计系统,准确控制气体流量,可以实现生产工艺拓展和调整。③系统采用自动化工艺流程,设定好工艺一键操作。降低人为因素,工艺可靠性可以达到99、9%;④机械泵系统:1pa,另外配备微调系统,确保可以在稳定负压下生长石墨烯;可实现日产20万平方厘米石墨烯薄膜

炉体

采用内控温和外控温相互切换,防止石英折射和散射造成的温场不均匀现象

供气系统

三路质量流量计

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