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磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备
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磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备

厂家: 日期::2020-07-09 浏览次数:

  主要特点

  此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作。同样也适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

  技术参数

炉管尺寸:

外径Φ25/50/60/80-100*1000mm(可选)

极限温度:

1200℃

工作温度:

≤1100℃

温度控制器:

PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器

升温速率:

≤50℃/min

加热区:

200+200mm

恒温区:

100+100mm

控温精度:

±1℃

电源:

单相220V,交流50Hz

3路质量流量供气系统

(触摸屏控制)

额定电压:

185~245V/50Hz

额定输出功率:

18W

流量计标准量程:

100,200,500SCCM;(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)

工作温度:

5~45ºC

工作压差:

0.1~0.5MPa

额定压力:

3MPa

准确度:

±1、5%FS

低真空系统

抽速:

8、11m³/h

极限总压:

3×10-3mabr

进排气口:

DN25KF

噪音(气镇开关时,距离1米处测量):

54dB

注油量:

0.7-1、1L

重量:

21Kg

工作温度:

10~40℃

功率:

550W

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