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PECVD石墨烯薄膜制备系统
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○ 产品介绍
PECVD石墨烯薄膜制备系统借助13、56MHz的射频输出等使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子体的强化学活性，改善反应条件，使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD石墨烯薄膜制备系统设备可以用于：石墨烯制备、硫化物制备、纳米材料制备等多种实验场所。
○ 适用范围
PECVD石墨烯薄膜制备系统设备可以用于：石墨烯制备、硫化物制备、纳米材料制备等多种实验场所。
○ 技术参数
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多温区加热系统 |
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单温区加热系统 |
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RF输出系统 |
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气体流量控制 |
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真空要求 |
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轨道功能 |
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○ 滑轨需要满足的要求
（1）常用方式是：等离子体发生器+三温区炉配合，其中导轨可以让三温区炉有一个炉位的滑动；
（2）希望的搭配使用方式1是：等离子体发生器+单温区管式炉；
（3）希望的搭配使用方式2是：单温区管式炉+等离子体发生器+三温区炉（此时三温区炉不需要滑动快速升降温）
需要做到单温区炉体能够比较方便地装到（1）方式的滑轨上，并且石英管两端的法兰支架可以在导轨长度内调节，能满足不同炉管长度条件下对法兰的支撑。
○ 免责声明
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