快速热处理退火炉简称RTP（RapidThermalProcessingFurnace），由我公司借鉴了国际先进制造工艺，在管式炉的基础上自主研发而成，不但拥有极快的升温速率100℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃，降温速率100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的极速升温和极速降温！

腔体采用了有双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。

加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。

应用领域：

Ø快速热退火(RTA);离子注入后退火

Ø石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长

Ø快速热氧化(,RTO);热氮化(RTN);

Ø硅化(Silicidation);

Ø扩散(Diffusion);

Ø离子注入后退火(ImplantAnnealing);

Ø电极合金化(ContactAlloying);

Ø晶向化和坚化(CrystallizationandDensification);

主要特点：

Ø极速升温100℃/S，极速降温100℃/S；

Ø双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀；

Ø直接测量样品表面温度，测温更精准；

Ø炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用；

Ø真空度可达9、8×10-4Pa；技术参数：