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真空烧结炉
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真空烧结炉

厂家: 日期::2020-08-25 浏览次数:
真空烧结炉

VTF系列真空烧结炉

1、用途:

用于金属粉末制品、光电元件、硬质合金、磁性合金、陶瓷、粉体材料及其它稀有及难熔金属材料的烧结,同时具备一定的脱蜡功能。

真空烧结炉

2、特点:

2.1 控制采用计算机系统,预设多种工艺曲线,自动完成渗碳等工艺。

2.2 具有完善的报警系统,能有效的对设备提供保护。

2.3 额定加热温度可达到2000℃,温度均匀性可达到±5℃,控温精度±1℃,

2.4 低温段和高温段分别采用不同控温元件进行控温,自动切换。

真空烧结炉

3、选型参考

此系列产品为研发型项目,可针对用户的产品做出针对性很强的方案。可选型号有低温烧结炉和高温烧结。

型号:

有效区尺寸(mm)

装炉量(kg)

加热材料

加热功率(kw)

额定温度(℃)

温度均匀性(±℃)

极限真空度(Pa)

压升率(Pa/h)

VTF-335

300×300×450

100

石墨

60

1300/2000

5

4×10-3

0.5

VTF-446

400×400×600

200

石墨

80

1300/2000

5

4×10-3

0.5

VTF-557

500×500×700

300

石墨

100

1300/2000

5

4×10-3

0.5 

VTF-669

600×600×900

500

石墨

120

1300/2000

5

4×10-3

0.5

VTF-8812

800×800×1200

800

石墨

210

1300/2000

5

4×10-3

0.5 

VTF-9915

900×900×1500

1000

石墨

280

1300/2000

5

4×10-3

0.5 

真空烧结炉

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