产品介绍：

真空气氛管式炉广泛用于各种反应温度在1400℃左右的CVD实验；也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

产品描述：

真空气氛管式炉以质硅碳棒为加热元件；采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，炉管下方配有支架，有效防止炉管两端高温变形断裂；可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的不错产品。

产品用途：
主要应用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等 。

产品参数：

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