自动压力控制模块 2020-07-15

产品介绍 TN-KJF-2V是一款自动压力控制模块，专门用于来确保一密闭腔体内的气压恒定，特别适合配合于真空管式炉来使用。配有一数字真空计，真空计上有一RS-232接口，可输..

高纯度氧化铝坩埚盖 2020-07-15

适用范围 高纯度氧化铝盖子盖子，用于化学煅烧，金属铸造和陶瓷样品制备。 规格参数 尺寸：25毫米（+/- 4毫米）直径×5毫米（+/- 1毫米）高 纯度：Al2O3 99.5％; Fe2O3 0.01％ 100％不透水..

实验室PVC蓝色薄膜 2020-07-15

产品介绍 西格马PVC蓝色薄膜的粘附性较强，可以粘住各种尺寸的衬底(厚度小于2.0mm)，特别适合用于真空旋转涂层机 VTC-100, VTC-200 宽度;6.0 厚度；125um 长度；390..

实验室PVC蓝色薄膜 2020-07-15

产品介绍 西格马PVC蓝色薄膜的粘附性较强，可以粘住各种尺寸的衬底(厚度小于2.0mm)，特别适合用于真空旋转涂层机 VTC-100, VTC-200 宽度;6.0 厚度；125um 长度；390..

CVD气相沉积 2020-07-15

○ 产品介绍 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛用于各种CVD实验 ○ 技术参数 1、真空管式炉 工作电压..

三温区CVD气相沉积系统 2020-07-15

○ 产品介绍 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验。 ○ 适用范围 主要用于真空烧结、气氛..

PECVD石墨烯薄膜制备系统 2020-07-15

○ 产品介绍 PECVD石墨烯薄膜制备系统借助13.56MHz的射频输出等使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子体的强化学活性，改善反应条件，使..

CVD系统 2020-07-15

○ 产品介绍 一体式CVD系统设计紧凑，使用方便。特别是丰富的图文界面，即使您是**次操作，该系统也能顺利引导您很快掌握该CVD系统的使用和操作，您根本无需专业学习，为..

四路质子混气管式pecvd系统 2020-07-15

○ 产品介绍 等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综..

等离子增强型CVD系统 2020-07-15

○ 产品介绍 TN-O1200-50IS-PECVD是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流量计控制系统、性能异的真空泵组成。 ○ 技术参数 结..

三温区三通道CVD混洗系统 2020-07-15

○ 产品介绍 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到 10-2 torr..

1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统 2020-07-15

TN-O1200-50IT-3F-LV1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程序..

1200℃单温区3路浮子供气高真空CVD系统 2020-07-15

TN-O1200-50IT-3F-HV1200单温区3路浮子供气高真空CVD系统该设备由单温区管式炉、三路浮子流量计和高真空分子泵组组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温..

1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统 2020-07-15

TN-O1200-50IT-3Z-LV 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程..

1200℃单温区3路质量供气高真空CVD系统 2020-07-15

TN-O1200-50IT-3Z-HV1200℃单温区3路质量供气高真空CVD系统由单温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵组构成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程序..

卷对卷式PECVD 2020-07-15

卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中..

卷对卷式PECVD 2020-07-15

卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中..

1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统 2020-07-15

TN-O1200-50IT-3Z-LV 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程..

CVD气相沉积 2020-07-15

○ 产品介绍 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛用于各种CVD实验 ○ 技术参数 1、真空管式炉 工作电压..

三温区CVD气相沉积系统 2020-07-15

○ 产品介绍 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验。 ○ 适用范围 主要用于真空烧结、气氛..