真空气氛炉 2020-06-23

真空气氛炉该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能型51段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空电阻炉广泛应用于..

900℃ 双温区RTP炉 2020-06-23

900℃ 双温区RTP炉是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品升温..

1200℃三温区滑轨炉 2020-06-23

1200℃三温区滑轨炉配置dia80x94” 石英管和法兰，工作温度*高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/min。为取得*快加热，可以预先加热..

900℃RTP滑轨炉 2020-06-23

900℃RTP滑轨炉是一种快速热处理炉。采用红外灯加热和移动炉体快速冷却，可获得*快升温速率：50°C/S 和降温速度：5°C/S 900℃RTP滑轨炉 的详细介绍 技术参数 名称 ..

1200℃单温区滑轨炉 2020-06-23

1200℃单温区滑轨炉配置dia3”x55” 石英管，工作温度*高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得*快加热，可以预先加热炉子到设..

带3路浮子混气RTP管式炉 2020-06-23

带3路浮子混气RTP管式炉配有三路流量计和一个机械泵（真空度达 10-3 torr ）。他专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达 3" ）退火而设计。 这款设备是采用..

900℃小型RTP炉 2020-06-23

900℃小型RTP炉配有4" 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（达3“）的退火而设计，采用10KW红外灯管加热*快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制，精..

高真空RTP 炉 2020-06-23

高真空RTP炉是一款精巧型快速热处理管式炉(4" 石英管)，配有高真空系统（机械泵 +分子泵) ，带KF-D25 真空法兰.它是专为半导体或太阳能电池基片（达3“）的退火而设计..

半导体真空快速退火炉 2020-06-23

半导体快速退火炉以上等加热模块为加热元件，采用双层壳体结构和31段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，半导体退火炉炉膛采用不锈钢材料，退火炉双层炉壳间配有风冷系统..

1100℃小型高温高压管式炉 2020-06-23

1100℃小型高温高压管式炉SLGY1100其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器，所以当管内气压高于设定值时，电磁阀会自动打开排气，使管内气压达到设定值。其炉管采用镍基..

氢气炉 2020-06-23

氢气炉主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料等在氢气保护下的各种个复杂工艺，具有多种工艺气体的流量控制。是科研、数学、生产、新材料研发的重要设备。 氢气炉 的..

1700℃氢气炉（8L）SGM-1700℃H2 2020-06-23

1700℃氢气炉（8L）SGM-1700℃-H2 1700℃氢气炉（8L）SGM-1700℃-H2 的详细介绍 SGM-1700℃-H2是一款通过CE认证的高温箱式炉，此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性..

带有光学窗口的高温高压炉TFO-1200℃HP-III-W 2020-06-23

带有光学窗口的高温高压炉TFO-1200℃-HP-III-W 带有光学窗口的高温高压炉TFO-1200℃-HP-III-W 的详细介绍 OTF-1200℃-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉，炉管采..

高真空管式炉 2020-06-23

高真空管式炉配备真空仪器进行抽真空，能够在较短时间内，使得真空度达到×0.001Pa。能够满足对于真空度要求较高的客户，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛..

1200℃混合箱式/管式炉SGM-1200℃H 2020-06-23

1200℃混合箱式/管式炉SGM-1200℃-H 1200℃混合箱式/管式炉SGM-1200℃-H 的详细介绍 SGM-1200℃-H是一款*新设计的混合管式/箱式 炉，此款高温炉配有2个炉管（带有真空..

不锈钢高温气氛炉 2020-06-23

不锈钢气氛炉主要用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研..

1200度箱式气氛炉\实验用气氛真空炉 2020-07-07

SGM1600度箱式气氛炉是由洛阳西格马高温电炉研发生产的高温实验用箱式气氛炉。SGM1600度箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件，温度可达1600℃。..

滑动式双温区PECVD系统OTF-1200℃II-4CV-PE-SL-UL 2021-01-27

滑动式双温区PECVD系统OTF-1200℃-II-4CV-PE-SL-UL 滑动式双温区PECVD系统OTF-1200℃-II-4CV-PE-SL-UL 的详细介绍 OTF-1200℃-II-4CV-PE-SL 是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统。该系统包含500W等离子源,80..

小型滑动PECVD管式炉系统-OTF1200℃50S-PE-SL 2020-06-23

小型滑动PECVD管式炉系统-OTF-1200℃-50S-PE-SL 小型滑动PECVD管式炉系统-OTF1200℃-50S-PE-SL 的详细介绍 OTF-1200℃-50-PE-SL是一款小型的PECVD( PlasmaEnhancedChem..

1700°C二通道混气高真空CVD系统SGL-1700℃HVC 2020-06-23

1700°C二通道混气高真空CVD系统SLG-1700℃-HVC 1700°C二通道混气高真空CVD系统SGL-1700℃-HVC 的详细介绍 SLG-1700℃-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统，它是由..