1200℃实验室滑轨炉PECVD系统设备
产品详情
功能特点:
本套PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到不错的真空度;同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的烧结设备
电炉用途:
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
电炉参数
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炉体结构:双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温;
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炉子底部装有一对滑轨,移动平稳
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炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却
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炉盖可开启,可以实时观察加热的物料
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电源电压:AC220V 50/60Hz;
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功率:4KW
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炉管材质:高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小
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炉管尺寸:Phi;60*1250mm
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加热系统:加热元件采用质合金丝0Cr27Al7Mo2,表面负荷高、经久耐用
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加热区长度:270mm
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恒温区长度:100mm
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工作温度:le;1150℃
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额定温度:1200℃
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升温速率:10℃/min
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极限真空:6、0×10-5Pa
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工作真空:7、6×10-4Pa
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温控系统:温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
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测温元件:N型热电偶
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恒温精度:±1℃
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混气系统:四路质量流量计:数字显示、气体流量自动控制、内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀、管路采用不锈钢管,接口为Phi;6卡套、每路气体进气管路配有不锈钢针阀、通过控制面板上的旋钮来调节气体流量
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流量规格:0~200sccm
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流量精度:±5、%
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高真空真空系统:采用双级旋片真空泵+分子泵,极限真空可达4、0*10^-4Pa
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复合真空计,配置电阻规+电离规
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抽速:110L/S
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冷却:风冷
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射频电源系统输出功率:0-300W
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功率稳定度:±0.1%
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射频电源频率:13、56MHz 稳定性±0.005%
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额定反向功率:120W
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射频电源电子输出端口:UHF
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冷却:风冷
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电源:AC187-253V 50/60Hz
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可选配件:混气系统,中、高真空系统,各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪。
1200℃实验室滑轨炉PECVD系统设备
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