产品详情

简单介绍： 等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了四路质子混气管式pecvd系统，能广泛适应各类薄膜研究的需要比如：石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材 详情介绍：

产 品 特 点	与普通的CVD系统相比，因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。 配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温，实现快速退火。 操控界面可配备液晶操作系统，图文显示，直观易懂，对于设备的使用操作简单易学 该系统额定工作温度接近1150℃，能满足大多数热处理场合。 该设备可具体用于：碳、ZnO纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验。
等 离 子 发 生 器	输出功率:5～500W&±1%. 射频频率:13、56MHz&±0.005%. 反射功率:*大约200W 阻抗匹配:自动
真 空 泵 机 组	双极旋片泵,极限真空0.1Pa KFD25快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连. 管内真空可达1Pa 可选：本公司的防腐型数字式真空显示计，其测量范围为3、8x10-5至1125Torr.不需因测量气体种类不同而需要系数转换。（需要另外计算费用）
质量流量计	三通道的质量流量计(精度0.02%)：数字显示，自动控制. MFC1范围:0~100sccm MFC2和3:0~500sccm 一个混气罐，底部装有泄废液口. 进气接口:1/4NPS. 出气接口:1/4NPS.
水冷系统	水冷法兰要求：水流量gt;=10L/M，配有专业水冷机组。
管式炉	炉管直径：80mm 炉管长度：1400mm 炉膛长度：440mm 控温精度：&±1℃ 工作温度：≦1200℃

四路质子混气管式pecvd系统

四路 质子 混 气管 式 pecvd 系统 简单 介绍 生产厂家哪家好？四路质子混气管式pecvd系统-洛阳高温电阻炉厂家为专业的生产厂家，具有多年的研发与生产经验、质量稳定可靠 TAG:四路 质子 混 气管 式 pecvd 系统 简单 介绍