三温区智能型等离子体化学沉积系统（TF-1200℃-III-500A-PECVD）
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此款智能型等离子体增强化学沉积系统的高温真空炉加热炉体采用氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，可用于制备大面积高质量低成本二维层状半导体材料及其异质结。加热元件选用上下共16组电阻丝加热，有利于炉内温度场的均匀分布。高温真空电阻炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统，控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温，电力调制器控制;测温元件采用K型热偶。采用单回路温控仪能够自整定PID 参数，无须操作人员的干预，可自行根据不同温度曲线的升、降温要求调整输出信号，同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能，大大降低了对操作人员经验的要求，关键电气元件采用质的产品，做到高性能、免维护，提高了设备质量的可靠性。 本设备集真空系统、气路系统、射频源、自动推进、加热炉于一体，并将所有控制集成于触屏操控界面之中，使设备更加智能化，便于使用者操作。增大了加热区的长度及温区数量,延长了炉管，使辉光长度达到了2000mm，同时保持很好的辉光均匀性。 |
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2、PE射频电源
3、三路质子流量控制系统
4、低真空机组
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