低真空CVD系统 TF-1200℃-IV-4ZL
主要特点
这款配置的低真空CVD系统集1200度开启式真空管式炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、四温区、五温区、多温区)，可预抽真空(有高真空、低真空)，通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。真空泵可选用设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
技术参数
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真空管式炉SGM TF-1200C-IV |
额定功率：5Kw 额定电压：AC220~240V50Hz 额定温度：1200℃ 额定温度：1100℃ 加热区长度：150+200+150+300mm（4点控温） 升温速率:≤20 ℃/min 炉管尺寸：Φ100*14000mm(可选) 外型尺寸（长×宽×高）：1030×430×580mm 重量：80kg |
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供气系统GMF-3Z
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（质子流量计） 外形尺寸：600x600x650mm 连接头类型：双卡套不锈钢接头。 标准量程（N2)：100、200、500sccm； （可根据用户要求定制） 准确度：±1、5%F.S. 线性：±0.5～1、5%F.S. 重复精度：±0.2%F.S. 响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec 工作压差范围：0.1～0.5 MPa 额定压力：3MPa 接口：Φ6,1/4'' 显示：4位数字显示 工作环境温度:5~45高纯气体 内外双抛不锈钢管：Φ6 压力真空表：－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 截止阀：Φ6 |
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低真空机组VAU-02 |
型号：VRD-8 抽速：8m³/h 极限真空度：5*10-1pa 电源：220v 50hz 电机功率：0.4kw 进排气连接口：KF25 用油量：0.6-1L 电机转速：1440rpm 工作环境温度：5-40℃ 噪音：≤56db |
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