常规型号
三靶磁控溅射仪(SGM-600-3HD)
安装条件
本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99、99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要特点
1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
技术参数
1、电源电压:220V 50Hz
2、总功率:2、5KW
3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar)
4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
5、靶枪数量:3个
6、靶枪冷却方式:水冷
7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
8、直流溅射功率:500W(可选)
9、射频溅射功率:300W/500W(可选)
10、载样台:Ø140mm
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、保护气体:Ar、N2等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM
产品规格
主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg
标准配件
1
直流电源控制系统
2套
2
射频电源控制系统
1套
3
膜厚监测仪系统
1套
4
600分子泵组
1台
5
工业级水冷机
1台
6
冷却水管(Ø6mm)
4根
可选配件
金、铟、银、白金等各种靶材
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