1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200℃-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。 1200℃双管滑动式四通道混气" />
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