高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV-洛阳高温电阻炉厂家

高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV

  • 别称:
  • 类型:高温电炉系列
  • 温度:
  • 规格:

产品详情

高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV是由4″RTP炉、三通道混气系统和高真空机组组成,可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达 3″ )的退火,并采用 10KW的红外灯进行加热,升温速度可达 120℃/s,配有RS485 接口,高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV 详细介绍

电炉型号

高真空快速CVD系统OTF-1200℃-4-RTP-C3HV

主要特点

1、双层Al2O3纤维钢构,无需水冷或风冷。

2、内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3、PID控制器,可以设置30段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。

4、CE认证。

技术参数

1、电源:单相208-240V AC 50/60Hz10KW

2、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm

3、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm

4、加热区:300mm

5、工作温度:温度≤1100℃

6、控温精度:&±0.5℃

7、升温速度:RT-800℃时为50℃/s,800℃-1000℃时为10℃/s

8、温控仪:可控硅(SCR)PID自动控制

9、真空法兰:不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温O型圈密封,长时间在>900℃条件下运行必须采用水冷,循环水流量为0.5m3/hr

10、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

11、质量流量计:3个,MFC1范围0-100sccm,MFC2范围0-200sccm,MFC3范围0-500sccm,精度1&±%FS

12、混气罐:Φ80mm×120mm

电炉规格

尺寸:炉体760mm×330mm×530mm,真空混气系统600mm×600mm×597mm

重量:炉体45kg,真空混气系统75kg

 


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