功能特点:
由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积和扩散试验。
产品用途:
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
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机器电源:AC220V,50/60Hz;
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额定功率4kw
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炉管:高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小,能承受骤冷骤热的温度变化;
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炉管尺寸:Φ80*-1000mm
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加热元件:0Cr27Al7Mo2
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加热区长度:400mm(可定制)
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恒温区长度:200mm(可定制)
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工作温度:≤1150℃
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升温速率:≤10℃/min
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温控系统:温度控制采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能、30段升降温程序
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测温元件:N型热电偶
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恒温精度:&±1℃
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保护及提醒:超温、断偶故障警报及断电保护、高精度质量流量计通过数据接口连接电脑,配置软件实时人机交互界面
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混气系统:四通道质量流量控制,可同时通入四种不同气体、内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀、每路气体进气管路配有不锈钢针阀
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流量规格:0~30SLM
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控制精度:&±1、0%F.S
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极限真空:6、0×10-5Pa
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工作真空:7、6×10-4Pa
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冷凝系统:采用低温恒温槽,蕞低温度可达-20℃、内置不锈钢真空冷凝灌,采用KF接头,清理收集方便、槽内冷液可外引,冷却机外实验容器,也可在槽内直接进行低温、恒温实验