1200℃真空气氛炉

SGM1200度真空气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的不错产品。

1200度真空气氛炉用途：

1200度真空气氛炉可用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结、钎焊等工艺。

1200度真空气氛炉功能特点：

1、加热元件采用合金加热丝，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，大大提高了使用寿命。
2、可抽真空，并能通入多种保护气氛（易燃易爆、强腐蚀性气体除外）；
3、超温报警，漏电保护，操作安全可靠；
4、可选配通过触摸屏操作的方式对真空系统、充气系统、温控系统进行程序控制，操作简单方便，精准无误。

1200度真空气氛炉参数：