产品介绍 TN-KJF-2V是一款自动压力控制模块,专门用于来确保一密闭腔体内的气压恒定...
适用范围 高纯度氧化铝盖子盖子,用于化学煅烧,金属铸造和陶瓷样品制备。 规格参数...
产品介绍 西格马PVC蓝色薄膜的粘附性较强,可以粘住各种尺寸的衬底(厚度小于2.0mm),...
产品介绍 西格马PVC蓝色薄膜的粘附性较强,可以粘住各种尺寸的衬底(厚度小于2.0mm),...
○ 产品介绍 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计...
○ 产品介绍 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜...
○ 产品介绍 PECVD石墨烯薄膜制备系统借助13.56MHz的射频输出等使含有薄膜组成原子...
○ 产品介绍 一体式CVD系统设计紧凑,使用方便。特别是丰富的图文界面,即使您是**...
○ 产品介绍 等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体...
○ 产品介绍 TN-O1200-50IS-PECVD是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源...
○ 产品介绍 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统,其管径为80mm...
TN-O1200-50IT-3F-LV1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子...
TN-O1200-50IT-3F-HV1200单温区3路浮子供气高真空CVD系统该设备由单温区管式炉、三路...
TN-O1200-50IT-3Z-LV 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮...
TN-O1200-50IT-3Z-HV1200℃单温区3路质量供气高真空CVD系统由单温区管式炉、三路质量...
卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备(PECVD),并加装了收放卷装置。本设备...
卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备(PECVD),并加装了收放卷装置。本设备...
TN-O1200-50IT-3Z-LV 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮...
○ 产品介绍 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计...
○ 产品介绍 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜...