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单温区旋转PECVD石墨烯制备
2020-07-15
单温区旋转PECVD石墨烯制备 安装有真空自动投料器,炉管尾部预留KF40接口可以连接收料罐。投料器采用螺杆进料,可以以额定的速率将粉料送入炉管,投料速率可通过调节转速..
卷对卷式PECVD
2020-07-15
卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备(PECVD),并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中,如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中..
CVD气相沉积
2020-07-15
○ 产品介绍 本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛用于各种CVD实验 ○ 技术参数 1、真空管式炉 工作电压..
三温区CVD气相沉积系统
2020-07-15
○ 产品介绍 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验。 ○ 适用范围 主要用于真空烧结、气氛..
PECVD石墨烯薄膜制备系统
2020-07-15
○ 产品介绍 PECVD石墨烯薄膜制备系统借助13.56MHz的射频输出等使含有薄膜组成原子的气体电离,在真空腔体内形成等离子体,利用等离子体的强化学活性,改善反应条件,使..
CVD系统
2020-07-15
○ 产品介绍 一体式CVD系统设计紧凑,使用方便。特别是丰富的图文界面,即使您是**次操作,该系统也能顺利引导您很快掌握该CVD系统的使用和操作,您根本无需专业学习,为..
四路质子混气管式pecvd系统
2020-07-15
○ 产品介绍 等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综..
四路质子混气管式pecvd系统
2020-07-15
○ 产品介绍 等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综..
浮子流量计
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 TN-3F是一种紧凑型三通道防腐气体混合输送系统,可与管式炉一起放入小型通风柜中,更安全。 所有用气体润湿的部件都是由PTFE(例如阀门,管道,混合..
2路浮子流量计
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 TN-2F是一种紧凑型二通道防腐气体混合输送系统,可与管式炉一起放入小型通风柜中,更安全。 所有用气体润湿的部件都是由PTFE(例如阀门,管道,混合..
2路质子流量计
2020-07-15
http:○ 产品介绍 1.选择多种气体方式;2.304不锈钢管芯,耐腐蚀;3.不锈钢双卡快速接头,连接方便,无泄漏。 ○ 3路质子流量计的应用 1.半导体制造业 2.真空镀膜设..
3路质子流量计
2020-07-15
http:○ 产品介绍 1.选择多种气体方式;2.304不锈钢管芯,耐腐蚀;3.不锈钢双卡快速接头,连接方便,无泄漏。 ○ 3路质子流量计的应用 1.半导体制造业 2.真空镀膜设..
流量计
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 由坚韧的聚碳酸酯塑料制成。用于指示和手动控制0-60毫升/分钟的空气或气体流量。带有4英寸高度刻度,一个1/4英寸BSPP连接器和一个用于1/4英寸I.D管的..
多通道流量计
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 TN-GSL-LCD是一款多路质量流量计控制系统,其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里,移动柜额定可以承重1000Lbs,所以在与本公司大多数管式..
TN-4C耐高温真空泵
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 该耐高温真空泵采用内置风扇和大面积散热的风冷设计,大幅度降低泵的表面温升;采用耐高温密封圈和进口耐高温泵油,更加适合真空管式炉的高温使用环..
三靶磁控溅射镀膜仪
2020-07-15
http: ○ 产品简介 TN-600-3HD三靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜..
等离子增强型CVD系统
2020-07-15
http: ○ 产品介绍 TN-O1200-50IS-PECVD是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流量计控制系统、性能异的真空泵组成。 ○ 技术参..
三温区三通道CVD混洗系统
2020-07-15
http://y2.yizimg.com/uploads/533616/2020323-131323266.jpg ○ 产品介绍 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统,其管径为80mm,采用机械泵,它是由管..
1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统
2020-07-15
http://y3.yzimgs.com/uploads/533616/2019511-9238475.jpg TN-O1200-50IT-3F-LV1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组..
1200℃单温区3路浮子供气高真空CVD系统
2020-07-15
http://y3.yzimgs.com/uploads/533616/2019513-101119472.jpg TN-O1200-50IT-3F-HV1200单温区3路浮子供气高真空CVD系统该设备由单温区管式炉、三路浮子流量计和高真空分子..
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