双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）TF-1200℃-II-SL 2020-07-09

主要特点 此设备具有两个独立的温场，温场之外配有磁力拉杆和石英料舟，并配有内探热电偶，可实现在实验过程中将固态源(如硫粉、硒粉等)推进热场，并同时可检测温度。 技..

智能型双温区等离子化学气相沉积系统(型号：TF-1200℃-II-AS-500A) 2020-07-09

主要特点： 一、此设备的高温真空电阻炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统，控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温，电力调制器控制;负载采用小电压大电流控制..

三温区智能型等离子体化学沉积系统（TF-1200℃-III-500A-PECVD） 2020-07-09

此款智能型等离子体增强化学沉积系统的高温真空炉加热腔体采用进口氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，特别适合于制备大面积高质量低..

PECVD-500A/PECVD-S-150A 等离子辉光滑轨PECVD系统 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。 PECV..

前端预热滑轨PECVD 2020-07-09

管式炉 炉管尺寸：外径φ50 加热元件：电阻丝（Fe-Cr-Alloy doped by Mo） 加热区长度：440mm 恒温区长度：200mm（±1℃） 工作温度：1100℃ 额定温度：1200℃ ..

三独立智能型滑轨PECVD PECVD-III-500A-SSSL 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验和中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领..

小三温区等离子体增强化学气相沉积系统 （型号：PECVD-IIIS-500A） 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验和中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领..

射频电源150W/300W/500W 2020-07-09

本产品属管式可定制PECVD零部件，可承接现有管式炉PECVD设备。 信号频率 13.56 MHz±0.005% 功率输出范围 0W~500W 蕞大反射功率 100W 射频输出接口 50 Ω, N-type, female 功率稳定度 ≤5W 谐波分量..

大型卷对卷连续石墨烯膜生长设备 2020-07-09

Stock roll Annealing zone Growth zone 主要特点 基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连..

三温区滑轨式PECVD系统（TF-1200℃-III-SL-PECVD） 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

双温区滑轨式PECVD系统PECVD-II-500A 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

双温区PECVD系统 TF-1200℃-II-PECVD/TF-1200℃-II-SL-PECVD 2020-07-09

特点及用途： PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高10 9 -10 12 cm 3 电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄..

单温区滑轨式PECVD系统 TF-1200℃-SL-PECVD 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

辉光等效等离子PECVD系统 TF-1200℃-PECVD 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验和中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领..

小型滑轨式PECVD系统TF-1200℃-S-SL-PECVD 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

微型PECVD系统TF-1200℃-S-PECVD 2020-07-09

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

卷对卷连续生长PECVD设备RTR-III-150 2020-07-09

该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，压力控制系统，射频控制系统、..

TF-1200℃-VT-25 2020-07-09

..

等离子溅射仪 2020-07-09

主要特点 输入电源 AC220V、50/60HZ 额定输出功率 100W（300W可以选配） 频率 13.56MHZ 同调方式 手动2轴同调方式（可以选配自动） 靶材 大小2英寸厚度蕞大5mm ..

等离子清洗机 2020-07-09

主要特点 该设备具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清..